Fotokuivitav liim on liim, mis võib kiiresti ravida ultraviolettkiirguse või nähtava valguse all. Tegurid, mis mõjutavad fotokstatavate liimide sidumistugevust, on peamiselt järgmised:
Kõvenemistingimused:Valgusallika lainepikkuse ebapiisav valguse intensiivsus, aeg või ebakõla põhjustab mittetäielikku kõvenemist, vähendades sellega tugevust.
Fotoinitiatori tõhusus:Kui fotoinitsiaatori kontsentratsioon on ebapiisav, on tekitatud vabade radikaalide kogus väike ja ristsidumisreaktsioon ebapiisav; Kui kontsentratsioon on liiga kõrge, võib jääda vähendamata initsiaator, millest saab kleepuva kihi sisemine defekt ja vähendab tugevust.
Pinna puhtus:Õli, tolmu ja oksiidikiht (näiteks metallist rooste) substraadi pinnal moodustavad füüsikalise isolatsioonikihi, mis takistab molekulidevahelist jõudu kleepuva kihi ja substraadi vahel.
Liimiomadused:Erinevad omadused, näiteks komponentide suhe, viskoossus ja kõvenemise kokkutõmbumine, põhjustavad erinevaid sidumistugevusi.
Kõvenemistemperatuur:Kui ümbritseva õhu temperatuur on liiga madal, väheneb polümerisatsioonireaktsiooni kiirus, mille tulemuseks on mittetäielik kõvenemine (eriti talvel madala temperatuuriga toimingute korral). Reaktsiooni efektiivsust saab parandada substraadi eelsoojendamisega (kuni 25–40 kraadi); Kui temperatuur on kõvenemise ajal liiga kõrge, võib kleepuv kiht voolata või lekkida enne ristsidumist või võib fotoinitsiaator enneaegselt laguneda, mõjutades kõvenemise ühtlust.
Tööprotsess:Katte ebaühtlane paksus ja mullide eemaldamine põhjustab kohaliku tugevuse vähenemist.